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场发射透射电子显微镜
- 制造厂商：日本电子公司 JEOL
- 购置日期：2000-01-01
- 型号：JEM-2100F
- 生产国别：
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- 功能/应用范围： 主要特点为热场发射电子枪、分析型高分辨极靴、高分辨分析型电镜等。主要用于显微结构分析、晶粒形貌、晶体缺陷、纳米颗粒大小、界面结构、高分辨晶格像、微区成分分析等。
- 主要附件： 透射扫描附件，HAADF探头，单、双倾样品台，英国OXFORD公司的INCA EDS，美国GATAN公司的832CCD。
- 主要技术指标： 加速电压：200KV；点分辨率：0.19NM；线分辨率：0.1NM；透射扫描线分辨率：0.20NM；电子束斑大小：0.5-5nm；TEM模式：2-5NM；汇聚束模式：0.5-2.4NM；放大倍率（低倍模式：50-6000，标准模式：2000-1500000：选区模式：8000-800000；选区衍射相机长度：8-150CM；高分散衍射相机长度：4-80M；样品台倾斜角度（X：正负20度 Y：正负15度）；EDS分辨率：MNKA小于136eV；分析元素范围：B5-U92。
- 技术特色： 无
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