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场发射扫描电镜
- 制造厂商:FEI 公司
- 购置日期:2000-01-01
- 型号:Nova NanoSem 450
- 生产国别:
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- 功能/应用范围: 对样品进行形貌观察和成分分析。
主要应用于纳米颗粒与粉末,纳米管和纳米线,催化剂和发光材料
- 主要附件: 牛津能溥仪
- 主要技术指标: 分辨率:
高真空成像,最佳工作距离
0.8 nm @ 30kV (STEM)
1.0 nm @ 15 kV (TLD-SE)
1.4 nm @ 1 kV (TLD-SE),非减速模式
3.5 nm @ 100 V (DBS)
高真空分析,分析工作距离
3.0nm @ 15 kV & 5nA (TLD-SE)
低真空成像, 最佳工作距离
1.5 nm @ 10 kV (Helix探测器)
1.8 nm @ 3 kV (Helix探测器)
- 技术特色: 擅长做薄膜样品,导电性较差的样品 。