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上海新微技术研发中心有限公司上海新微技术研发

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反应例子刻蚀系统

  • 制造厂商:Samco
  • 购置日期:2000-01-01
  • 型号:RIE-10NR
  • 生产国别:
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仪器详情
  • 功能/应用范围: 刻蚀钝化材料如氮化硅、二氧化硅和氧氮化硅; 微型机械的生产; 失效分析
  • 主要附件: 无
  • 主要技术指标: 高选择比各向异性刻蚀; 具有全自动以及全手动操作模式可供调整; 具有碰触屏使数值输入以及工艺配方的储存更容易; 最大可处理直径8英寸晶片; 紧凑型设计可节省无尘室空间
  • 技术特色: