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反应离子刻蚀机
- 制造厂商：牛津仪器等离子技术公司
- 购置日期：2016-07-22
- 型号：Plasmapor system100
- 生产国别：
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- 功能/应用范围： 设备主要组成：腔室、射频源、等离子源真空系统、气路系统、预真空室、控制系统与软件等；
主要用于二氧化硅及其他氧化物的低速率、低损伤刻蚀等用途
- 主要附件： 设备主要组成：腔室、射频源、等离子源真空系统、气路系统、预真空室、控制系统与软件等；
- 主要技术指标： 最大刻蚀尺寸：4英寸；
最低刻蚀速率：≤0.5nm/s;
可是不均匀性：<5%；
重复性：≤±2%
- 技术特色：
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