只有通过实名认证的机构用户,才可以进入管理后台哦。
反应离子刻蚀机
- 制造厂商：Sentech
- 购置日期：2014-01-17
- 型号：SI500
- 生产国别：德国
免费咨询
- 功能/应用范围： 金属薄膜（如铝、镍、铬、钛等）、多晶硅和Ⅲ-Ⅴ族化合物的干法刻蚀
- 主要附件： 无
- 主要技术指标： 1.气体种类：CF4、Cl2、HBr、SF6、SiCl4、BCl3等
Gas: CF4、Cl2、HBr、SF6、SiCl4、BCl3
2.基片尺寸：最大支持8英寸，并向下兼容6、5、4、3、2英寸等以及破片
substrate size: Up to 8inch and below; broken pieces
3.射频电源 ICP电源：13.56MHz，1200W; 偏压电源：13.56MHz，600W
RF Generators: ICP source: 13.56MHz, 1200w; RF Bias:13.56MHz, 600 W
4.工艺温度：-20℃到80℃可控
Process temperature: -20℃ to 80℃ controllable
5.传送模式：自动Loadlock传送系统
Wafer transfer: Automatic loadlock transfer system
收藏仪器
