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等离子去胶机

  • 制造厂商：PvA TePla
  • 购置日期：2014-01-17
  • 型号：Microwave 600w
  • 生产国别：美国
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仪器分类

全部

仪器详情
  • 功能/应用范围： 1. 干法刻蚀后光刻胶灰化（去胶）； 2. 基片表面等离子改性（O2或N2)。
  • 主要技术指标： 1.腔体尺寸：直径248mm*245mm深 Chamber size: diameter248mm*deep245mm 2.电源频率及功率：2.45GHz,600W RF Generator：2.45GHz，600W 3.基片尺寸：8寸并向下兼容6、5、4、3、2英寸等以及破片 substrate size: Up to 8inch, applicable to 6, 5, 4, 3, 2 inch and broken pieces 4.气体配备：O2、N2极限真空：<1´10–7Torr Gas: O2, N2； Base pressure: <1´10–7Torr