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上海交通大学交大

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离子束微纳加工系统

  • 制造厂商:ADVANCED
  • 购置日期:2009-06-15
  • 型号:LDJ-F100
  • 生产国别:中国
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仪器详情
  • 功能/应用范围: 1. 沉积各类金属薄膜; 2. 磁性材料沉积需与平台联系确认。
  • 主要技术指标: 1.极限真空:9´10-5Pa Ultimate vacuum: 9´10-5 Pa 2.刻蚀均匀性与重复性:3英寸衬底均匀性优于±5% ,重复性优于±5% Thickness non-uniformity: better than ±5% on 3” substrate. Thickness repeatability: better than ±5% 3.刻蚀速率:200nm/min Etching rate: 200nm/min 4.基片尺寸:≤4英寸 Substrate: 4” and below 5.刻蚀气体:Ar